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    工業清洗劑

    晶圓清洗劑

    PL31晶圓清洗劑

    類別:晶圓清洗劑

    簡介: 本品專用于晶圓芯片、高端光學制品的清洗,具有極強的清洗力,能快速有效祛除產品表面可移動不可移動殘留物,如:氧化硅拋光液殘留、光刻膠殘留、粉塵顆粒物、油污等;清洗效果穩定,不傷鍍膜層。

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    • 產品規格
    • 產品詳情

        

                       

    本品專用于晶圓芯片、高端光學制品的清洗,具有極強的清洗力,能快速有效祛除產品表面可移動不可移動殘留物,如:氧化硅拋光液殘留、光刻膠殘留、粉塵顆粒物、油污等;清洗效果穩定,不傷鍍膜層。


    用途特性            

    ? 高性價比,能整體有效的降低清洗和維護成本;

    ? 對人無毒、無閃點,使用安全得到保障;

    ? 高效:在設定的工作條件下,510分鐘即可將污垢洗凈;

    ? 無腐蝕:對材料相容性好。

      

    主要技術指標         

    外觀(原液)          

    無色透明液體

    比重             

    1.06±0.01

    PH            

    1011

    氣味             

     

     

    使用方法

    建議原液使用,可適當稀釋使用,稀釋比例不超過20倍;

    溫度:50-60     時間:5-10分鐘

    注意:清洗設備建議選擇高頻超聲波清洗,避免因頻率過高震傷產品。


     注意事項  

                     

    如不慎進入眼中應立即用清水沖洗,人工清洗時,請配戴防護手套;    

    儲存于陰涼干燥處,避免陽光直射

    包裝規格

    25KG/桶

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